艾司摩爾:EUV產能飆到2025年

EUV概念股前三季營收表現

微影設備大廠艾司摩爾(ASML)20日召開法人說明會,預期邏輯製程及DRAM製程將加速導入極紫外光(EUV)微影技術,2022年EUV曝光機年產能將提升至55臺,全球EUV產能進入成長爆發階段,並且將一路創新高到2025年。

法人看好家登、帆宣、公準意德士等EUV概念股營運同步看旺到2025年。

■EUV明年產能提升至55臺

ASML公告第三季合併營收達52.41億歐元毛利率達51.7%,營業利益率36.6%,稅後淨利17.40億歐元,每股淨利4.27歐元,符合市場預期。第三季新增訂單達62億歐元,其中29億歐元爲0.33數值孔徑EUV曝光機訂單。ASML預期第四季營收介於49~52億歐元,並達成2021年營收較去年成長35%目標

ASML執行長Peter Wennink指出,新冠肺炎疫情持續加速數位轉型,爲解決晶片缺貨問題,IDM廠、晶圓代工廠、記憶體廠均擴大投資提高產能,且投資項目聚集在先進製程產能,進一步推動邏輯IC及DRAM的EUV設備強勁需求。ASML今年EUV設備產能約達45~50臺且供不應求,明年預期將提高至55臺,且都將用於生產效率提升15%的新一代NXE: 3600D曝光機,新機臺客戶晶圓廠小時曝光產量(throughput)已達160片。

■全球瘋EUV,家登受惠大

根據ASML召開分析師會議資料,隨着邏輯IC製程明年跨入3奈米世代,DRAM製程微縮至14奈米以下,單片晶圓EUV曝光光罩層數正在快速提升,ASML預估先進邏輯製程晶圓2021年EUV曝光層數平均已逾10層,至2023年將增加到逾20層,EUV曝光機臺未來幾年都會供不應求,EUV概念股營運看旺。

設備業者指出,臺積電明、後兩年會有5奈米及3奈米晶圓廠陸續進入量產,成爲全球擁有最大EUV產能的半導體廠,至於英特爾三星、SK海力士美光等也開始積極擴建EUV產能,對於極紫外光光罩盒(EUV Pod)及晶圓傳送盒採購量會大增,家登已獲臺灣美國韓國等大廠訂單,營運成長動能持續增溫。

由於ASML的EUV曝光機訂單一路滿到2025年,打進EUV曝光機零組件供應鏈的帆宣、公準、意德士等直接受惠。

其中,帆宣與ASML合作多年,並承接EUV雷射穩壓模組代工訂單,公準爭擠身精密零組件供應商,意德士是EUV機臺晶圓真空吸盤供應商。