ASML加快EUV曝光機世代交替 家登帆宣公準 接單旺到明年
英特爾、臺積電、三星、SK海力士等半導體四巨頭已將ASML今、明兩年EUV曝光機產能預訂一空。圖／路透
包括英特爾、臺積電、三星、SK海力士等半導體四巨頭今年擴大極紫外光（EUV）產能建置及量產規模，包括向艾司摩爾（ASML）採購最新0.33數值孔徑EUV曝光機，每小時曝光產量（throughput）可提升至160片，並與ASML合作開發0.55高數值孔徑（High-NA）次世代EUV技術，預計2025年進入量產，以維持摩爾定律有效性。
隨着7奈米及5奈米等先進邏輯製程、1a奈米DRAM製程今年導入EUV微影技術並擴大量產投片規模，四大半導體廠已將ASML今、明兩年EUV曝光機產能預訂一空。法人看好EUV設備及材料供應鏈強勁需求，包括家登（3680）、帆宣（6196）、公準（3178）等EUV概念股接單旺到明年。
臺積電及三星在2019年推出採用EUV技術7奈米制程，2020年採用更多EUV光罩層的5奈米亦進入量產階段，加上三星領先同業率先以EUV量產1a奈米DRAM，推升EUV生態系統進入成長爆發階段。根據ASML統計，2019年初採用EUV曝光晶圓累計達400萬片，但去年底晶圓累計已達2,600萬片規模，2021年將維持高速成長。
市調機構IC Knowledge LLC指出，ASML自2019年第四季開始出貨的NXE：3400C曝光機，在每平方公分30毫焦耳（30mj/cm2）功率下，每小時曝光產量約135～145片，在邏輯製程上可支援5奈米量產及3奈米初期生產。隨着臺積電及三星明年開始量產3奈米，ASML今年下半年推出升級版NXE: 3600D曝光機，每小時曝光產量提升至160片，可符合3奈米制程量產需求。
ASML將於2022～2023年推出妥善率達95％的新一代0.33 NA的EUV曝光機，屆時每小時曝光產量可再提升至220片以上。同時，ASML將於2022年下半年推出次世代支援0.55 High-NA的EUV曝光機EXE：5000，每小時曝光產量達150片，預計2025年推出首款High-NA量產型曝光機EXE：5200，每小時曝光產量將超過220片。
ASML今年產能可支援45～50臺EUV曝光機出貨，其中八成已被臺積電及三星包下。隨着半導體四巨頭擴大EUV產能建置並提高量產規模，EUV設備及材料供應商直接受惠，家登已拿下全球九成EUV光罩盒（EUV Pod）訂單並逐季放量出貨，帆宣及公準取得更多EUV設備模組及精密零組件代工訂單，訂單能見度已看到明年。