美續阻中國買ASML光刻機 央視稱國產技術有突破

荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾(ASML)。(圖/CFP)

記者陳政錄/綜合報導

拜登政府延續川普時期,美國中國科技禁令,其中一項就是阻止荷蘭公司ASML,向中國出售製造先進製程晶片中,至關重要的EUV光刻機。據《華爾街日報》報導,這臺中興華爲企業企圖引頸期盼的設備,價值1.5億美元,迄今一直沒能發貨,長此以往,將可能造成中荷關係惡化全球晶片供應鏈緊張。

據瞭解,中國企業中興、華爲從去年起,就高喊要自主研發晶片,往7奈米等更高製程技術突破,而其中的關鍵之一,就是進口核心的極紫外光(EUV)微影設備,該設備在中國被稱爲「極紫外光刻機」,目前全球只有荷蘭ASML公的產品達到要求。

▲中興、華爲等中國企業,一直希望能達成自主技術突破,生產高端晶片。(圖/CFP)

在此之下,中國商務部於去年12月中旬,就曾公開呼籲,荷蘭應在相關設備的國際貿易上,採「公平立場」,但儘管經過政黨輪替,不論是川普和拜登政府,都繼續施行對華科技禁令。

《華爾街日報》報導指稱,英特爾三星電子臺積電(TSM)等公司都在使用這種重達180 噸的大型機器,用於製造提供給頂尖智慧型手機、5G設備、AI電腦使用的晶片,而ASML一直沒有發貨給中國,是因爲荷蘭在美國的壓力下,扣留了出口許可證

報導援引美國官員表明,拜登政府是出於國家安全考慮。但ASML首席執行官Peter Wennink也擔憂,此限制可能適得其反,他表示,在中短期內廣泛使用管制,可能會減少全球晶片製造能力,加劇供應鏈問題。

報導還稱,美國的遊說使得中荷關係變得緊張,因爲中國官員經常詢問荷蘭官員,爲何不受與ASML機器運往中國的許可證。文章引述分析人士稱,沒有該批機器,中國若要用國產光刻機生產領先的晶片,至少需要10年的時間,才能與ASML匹敵。

事實上,美國之所以能限制荷蘭向中國出口設備,主因是在EUV光刻機中,核心的光源技術,有27%以上來自美國。在這個背景下,近日中國官媒《央視》報導稱,中國國內首臺高能光源設備已投入使用,可望成爲國產光刻機的「最後一塊拼圖。」

▲央視報導中國應用於光刻機的光源設備技術獲得突破。(圖/翻攝央視)

央視7月上旬報導稱,由國家發改委立項支持、中科高能物理研究院承建,國內首臺高能同步輻射光源科研設備,於2021年6月28日上午安裝。與此同時,負責爲這臺光源設備提供技術研發與測試支撐能力的先進光源技術研發與測試平臺啓動試運行。

與此同時,大陸中科科儀旗下的中科科美,其研製的直線式勞埃透鏡鍍膜裝置及納米聚焦鏡鍍膜裝置於2021年6月28日正式投入使用。大陸官媒報導稱,該設備能夠實現對光學零件0.1納米(100皮米)的萬層鍍膜需要,可以提高國產光刻鏡頭水準,與高能光源設備雙管齊下,助力實現先進製程晶片自主化生產的目標。

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