全球晶圓廠設備開支保持強勁 該細分領域需求持續提升

由先進半導體產業集羣主辦的2025中國國際半導體先進技術與應用大會，將於4月22日在蘇州舉辦。

興業證券分析指出，全球晶圓廠設備開支保持強勁，光刻機需求持續提升。ASML預計到2030年，全球半導體銷售額將超過1萬億美元，2025-2030年CAGR達9%；2025年-2027年，全球300mm晶圓廠設備支出預計分別1232億美元/1362億美元/1408億美元，同比分別增長24%/11%/3%，光刻機是半導體設備中市場佔比最大品類，市場佔比達24%。伴隨先進邏輯和存儲芯片製程持續迭代，EUV光刻機佔比持續提升。光刻機作爲芯片製造光刻環節的核心設備，目前全球前道光刻機被ASML、尼康、佳能壟斷，實現光刻機的國產化勢在必行，具有重大戰略意義。

據財聯社主題庫顯示，相關上市公司中：

茂萊光學爲光刻機光學系統提供用於勻光、中繼照明模塊的光學器件、投影物鏡，以及用於工件臺位移測量系統的棱鏡組件，是光刻機實現光線均勻性與曝光成像的核心模塊。

張江高科於2024年10月，通過子公司上海張江浩成創業投資有限公司投資了上海微電子公司22,345萬元人民幣，持有上海微電子公司10.779%的股權。