微影半導體 推LED光源投影曝光機

微影半導體董事長鬍德立（前排左五）與貴賓出席產品發表會。圖／微影半導體提供

微影半導體公司（Lithography Semiconductor Equipment Co., LTD）日前在臺南科學園區舉行盛大的產品發表會，正式推出全球第一套採用LED光源投影曝光機的半導體晶片解決方案，爲全球半導體產業帶來了一場革命性的突破。

這套創新的曝光機，是由微影半導體的創辦人胡德立領導的國際團隊在英國自主研發的成果，經過了多年的努力和挑戰，終於在今年成功地通過了臺灣半導體客戶的驗證，並獲得了預約生產的多套訂單。

微影半導體產品發表會吸引衆多的媒體，政府部門和業界人士的關注，他們對這套創新的曝光機表示了高度的讚賞和期待。

這套曝光機的優勢：1、全球晶片生產首創採用LED紫外光源，相較於傳統使用的劇毒汞燈，能耗僅爲1/100, 不僅節能，也減少了汞污染。2、自研高景深長焦鏡頭配合LED光源，不但照度超越汞燈系統，還可實現GHI線快速分割及合併曝光，可大幅提升曝光品質和效率，從2吋到12吋的晶圓尺寸，雙面對準系統等，適應各種半導體制程的需求。3、塗布顯影、曝光、檢測三大黃光核心製程技術完全由國人主導自主研發，並將於臺灣設廠生產製造，提供客製化「半導體黃光曝光生態平臺」Turn-Key服務。

微影半導體創辦人胡德立表示，這將是一種高效並且環保的新一代半導體生產設備，將爲臺灣半導體產業帶來巨大的競爭優勢和市場機會，期盼與更多的合作伙伴分享微影半導體的創新成果，共同推動全球半導體產業的發展。